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内容简介
本书对透射电子显微镜的构造、实验技术的原理和应用进行了详细介绍。第二版已对第一版内容进行了修订和更新。解释了为什么需要用到这一特殊的技术以及如何将这一特定概念运用到实践中。全书分为上下两册，共4篇，总计40章。第一篇主要介绍一些与透射电子显微镜相关的基本概念，包括电子衍射的基础知识、仪器的构造与功能，以及透射电子显微镜样品的制备等。第二篇主要介绍电子衍射的基本原理、不同的电子衍射实验技术，以及对电子衍射的理论描述。第三篇主要介绍成像的基本原理和各种成像类型、不同的成像技术，以及对实验图像的处理、分析和理论模拟。第四篇主要介绍X射线能谱和电子能量损失谱的基本原理和应用，以及与之相关的各种实验技术。全书有近700张图表，在英文版中全为彩图，而在中译本中大部分为黑白图，但并不影响所表达的意思。中译本将全书分成上下两册，即将英文版的第一篇和第二篇作为上册，将第三篇和第四篇作为下册。
本书可作为高等院校高年级本科生和研究生的教材，也可作为从事电子显微学分析等相关领域研究人员的参考用书。
章节目录
第三篇 成像原理
第22章 振幅衬度
章节预览
22.1 什么是衬度？
22.2 振幅衬度
22.2.1 图像和衍射花样
22.2.2 物镜光阑和sTEM探头的使用：明场像和暗场像
22.3 质-厚衬度
22.3.1 质-厚衬度的原理
22.3.2 TEM图像
22.3.3 STEM图像
22.3.4 质-厚衬度样品
22.3.5 定量质-厚衬度
22.4 Z衬度
22.5 TEM衍射衬度
22.5.1 双束条件
22.5.2 设置偏离参量s
22.5.3 拍摄双束CDF图像
22.5.4 图像和衍射花样的关系
22.6 STEM衍射衬度
章节总结
参考文献
自测题
章节具体问题
第23章 相位衬度成像
章节预览
23.1 介绍
23.2 晶格条纹像的起源
23.3 晶格条纹像的实践观察
23.3.1 s=0的情况
23.3.2 s≠0的情况
23.4 正带轴晶格条纹像
23.5 莫尔条纹
23.5.1 平移莫尔条纹
23.5.2 旋转莫尔条纹
23.5.3 一般莫尔条纹
23.6 实验观察莫尔条纹
23.6.1 平移莫尔条纹
23.6.2 旋转莫尔条纹
23.6.3 位错和莫尔条纹
23.6.4 复杂莫尔条纹
23.7 菲涅耳衬度
23.7.1 菲涅耳双棱镜
23.7.2 磁畴壁
23.8 孔洞或气泡的菲涅耳衬度
23.9 晶格缺陷的菲涅耳衬度
23.9.1 晶界
23.9.2 露头位错
章节总结
参考文献
自测题
章节具体问题
第24章 厚度效应和弯曲效应
章节预览
24.1 基本原理
24.2 厚度条纹
24.3 厚度条纹和衍射花样（DP）
24.4 弯曲轮廓（讨厌的瑕疵、有用的工具、珍贵的观点）
24.5 ZAP和实空间晶体学
24.6 凸起、凹陷和鞍状弯曲
24.7 吸收效应
24.8 厚度条纹的计算机模拟
……
第四篇 能谱分析
索引
透射电子显微学（下册）是1900年由高等教育出版社出版,作者David。
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