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国科图助力国家科技重大专项发展
内容简介
为了有效保障我国科学技术事业的发展，为国家科技重大专项提供学科情报服务支撑，中国科学院国家科学图书馆( 简称国科图) ，按照国家科技图书文献中心( NSTL) 服务国家重大科技专项的总体战略，组建了面向重大专项的学科情报服务团队，以承担”极大规模集成电路制造装备与成套工艺”( 简称02 专项)国家重大科技专项任务较为集中的中国科学院微电子研究所( 以下简称”微电子所”) 作为学科情报服务对象，通过专项研发领域概况调研和专项科研团队情报服务需求调研，缜密策划了嵌入重大专项关键技术研发过程的学科情报服务，提供了专项研发关注的专利技术分析报告等系列情报产品，得到了专项科研团队的充分认可和满意评价。
章节目录
封面
书名页
内容简介
版权页
序
目录
第1章 绪 论
1.1 需求调研
1.2 专利分析
1.3 数据来源
1.4 术语解释
第2章 2015年集成电路产业公开专利统计分析
2.1 集成电路产业专利总体分析
2.1.1 专利申请时间趋势
2.1.2 专利申请技术构成分析
2.1.3 专利申请国家/地区分布
2.1.4 专利申请人分析
2.2 集成电路设计类专利分析
2.2.1 专利申请技术构成分析
2.2.2 专利申请国家/地区分布
2.2.3 专利申请人分析
2.3 集成电路工艺制造类专利分析
2.3.1 专利申请技术构成分析
2.3.2 专利申请国家/地区分布
2.3.3 专利申请人分析
2.4 集成电路封装测试类专利分析
2.4.1 专利申请技术构成分析
2.4.2 专利最早优先权国家/地区分布
2.4.3 专利申请人分析
2.5 集成电路材料类专利分析
2.5.1 专利申请技术构成分析
2.5.2 专利申请国家/地区分布
2.5.3 专利申请人分析
2.6 集成电路设备仪器类专利分析
2.6.1 专利申请技术构成分析
2.6.2 专利申请国家/地区分布
2.6.3 专利申请人分析
第3章 工艺领域关键技术分析
3.1 高介质金属栅工艺技术专利分析
3.1.1 专利申请时间趋势
3.1.2 专利申请技术构成分析
3.1.3 专利申请国家/地区分布
3.1.4 专利申请人分析
3.1.5 在华专利分析
3.2 鳍式场效晶体管工艺技术专利分析
3.2.1 专利申请时间趋势
3.2.2 专利申请技术构成分析
3.2.3 专利申请国家/地区分布
3.2.4 专利申请人分析
3.2.5 在华专利分析
第4章 存储领域关键技术分析
4.1 MRAM技术的专利态势分析
4.1.1 引言
4.1.2 专利申请时间趋势
4.1.3 专利申请技术构成分析
4.1.4 专利申请国家/地区分布
4.1.5 专利申请人分析
4.2 RRAM技术的专利态势分析
4.2.1 引言
4.2.2 专利申请时间趋势
4.2.3 专利申请技术构成分析
4.2.4 专利申请国家/地区分布
4.2.5 专利申请人分析
4.3 PCRAM技术的专利态势分析
4.3.1 引言
4.3.2 专利申请时间趋势
4.3.3 专利申请技术构成分析
4.3.4 专利申请国家/地区分布
4.3.5 专利申请人分析
4.4 3D存储技术专利态势分析
4.4.1 引言
4.4.2 专利申请时间趋势
4.4.3 专利申请技术构成分析
4.4.4 专利申请国家/地区分布
4.4.5 专利申请人分析
第5章 光刻领域关键技术分析
5.1 纳米压印光刻专利态势分析
5.1.1 引言
5.1.2 专利申请时间趋势
5.1.3 专利申请技术构成分析
5.1.4 专利申请国家/地区分布
5.1.5 专利申请人分析
5.2 定向自组装光刻技术专利态势分析
5.2.1 引言
5.2.2 专利申请时间趋势
5.2.3 专利申请技术构成分析
5.2.4 专利申请国家/地区分布
5.2.5 专利申请人分析
5.3 电子束光刻专利态势分析
5.3.1 引言
5.3.2 专利申请时间趋势
5.3.3 专利申请技术构成分析
5.3.4 专利申请国家/地区分布
5.3.5 专利申请人分析
5.4 多重图形技术专利态势分析
5.4.1 引言
5.4.2 专利申请时间趋势
5.4.3 专利申请技术构成分析
5.4.4 专利申请国家/地区分布
5.4.5 专利申请人分析
5.5 EUV光刻技术专利态势分析
5.5.1 引言
5.5.2 专利申请时间趋势
5.5.3 专利申请技术构成分析
5.5.4 专利申请国家/地区分布
5.5.5 专利申请人分析
封底
集成电路产业关键技术专利分析报告是2018年由电子工业出版社出版,作者集成电路产业关键技术分析研究组。
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